地表上最會賺錢的stage
地表上最會賺錢的stage之一
ASML TWINSCAN EUV wafer stage
- 高真空環境
- 磁浮式
- 雷射干涉儀定位
- 加速度7G
- 最終成像overlay達1.4 nm
ASML晶圓曝光機的歷史，可追朔到1970年代Philip Research Lab底下的Optical Research Group。從研究光碟讀寫頭的定位控制開始，累積許多光機電整合mechatronics的know-how。
當時的Philip，也想切入IC製造的領域。而IC製造使用的曝光機，跟光碟讀寫頭一樣，有光、有機、也有電，所以自然而然地，開始了曝光機的研發。
1984年，Philip與ASMI共同成立ASM Lithography，同年發表第一台曝光機產品PAS 2000。當時的stage還是用液壓驅動的。
三十多年來，ASML除了自身投入大量研發資源外，也藉由併購強化它在曝光機領域的霸主地位。如提供EUV光源的Cymer，以及與曝光製程相輔相成，專精晶圓檢測的HMI漢微科。
後來的事，大家應該都知道了。
在高速公路上看到ASML的貨櫃，請閃遠一點。因為你一撞，不只30億的設備報廢，台積電的股價也可能跳水了。
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#EUV
高性能stage的設計，有興趣可參考本書
“The Design of High Performance Mechatronics”
https://www.amazon.com/-/zh_TW/dp/1643680501
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